半導体製造装置向け「LOGENEST LAMBDA（ロゲネストラムダ）」シリーズの開発ヒストリー

 「LOGENEST LAMBDA」は、40年以上前から販売されているロングセラー品です。

　当初は業務用プリンターや一眼レフカメラのプロ用最高機種での使用が始まりました。プリンターは高耐久性、一眼レフカメラはエベレストや南極といった極低温環境など、過酷な環境下でもその機能を発揮し、好評を得ました。

　2000年頃からは、「LOGENEST LAMBDA」が真空環境設備でも使用できるようにリリースされました。その後、2010年頃にはフラットパネルディスプレイの製造装置関連用、2017年頃には半導体の製造装置関連用としてリリースされ使用が始まりました。

　この分野では、温度領域だけでなく、真空環境下でも動作することが求められているため、高性能で信頼性のある潤滑剤が必要とされています。特に半導体業界では、近年、より高性能な半導体の製造プロセスが要求され、それに伴い、グリースが厳しい環境下にさらされるため、長期安定性やアウトガスといった課題が挙げられています。

　これを解決すべく、「LOGENEST LAMBDA」は過酷な温度・真空環境でも使用できるグリースとして、改良と開発を進め、新たなシリーズが登場しました。今後、半導体や宇宙開発といった真空産業における真空環境での潤滑の重要性はますます高まると予想されます。「LOGENEST LAMBDA」シリーズは、そのような状況に対応すべく、更なる進化を目指し、信頼性と性能の追求を続けてまいります。